特許

J-GLOBAL ID：200903049735325714

高周波プラズマ処理装置及び高周波プラズマ処理方法

発明者： 田中 元史 ,  坂野 美菜
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (3件)： 大胡 典夫 ,  竹花 喜久男 ,  宇治 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-005492
公開番号（公開出願番号）：特開2004-216246
出願日： 2003年01月14日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】低電力で安定したプラズマの維持を可能とした高周波プラズマ処理装置及び高周波プラズマ処理方法を提供すること。【解決手段】放電管11内へのガス噴出口21aの直径を特定し、或いはその方向を特定し、或いは、ガス噴出口21aとヘッド27との間隙22による整流部を形成し、その間隙22の大きさを特定することにより、放電管11内におけるプラズマを低電力で安定化させることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

筒状の放電管と、この放電管の外周に巻回された高周波コイルと、この高周波コイルに接続された高周波電源とを備え、前記高周波コイルに高周波電源から励磁電流を供給して前記放電管内に誘導プラズマを発生させ、放電管内に供給される処理対象に対して所定の処理を実行する高周波プラズマ処理装置であって、前記放電管の内壁に、直径が0.1〜5mmのガス噴出口を設けたことを特徴とする高周波プラズマ処理装置。

IPC (5件)：

B01J19/08 ,  B01D53/32 ,  B01J19/02 ,  H05B7/18 ,  H05H1/30

FI (5件)：

B01J19/08 E ,  B01D53/32 ,  B01J19/02 ,  H05B7/18 E ,  H05H1/30

Fターム (15件)：

3K084AA15 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075AA53 ,  4G075AA57 ,  4G075BA05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EC10 ,  4G075FB12