特許
J-GLOBAL ID：200903049738016950
異物検出装置および異物観察分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-018786
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221265
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 より高度な異物検出方法を用い、特にパターン付き半導体ウェーハ上の異物をパターンと区別して検出可能な異物検出装置と異物観察分析装置とを提供する。【解決手段】 第1の光検出器15aと第2の光検出器15bの2個が用意されており、受けた光量をそれに比例した電圧に変換して出力する機構を有する。レーザ光源11からパターン付きウェーハ16の1点に対してレーザ光12が入射すると、パターンの向き・間隔・模様に応じて、特定方向に散乱光・回折光を発生する。これに対して、異物からのレーザー照射による散乱光は、方向による光量差はあるものの全方向に放射される。このことによって、これらの複数の検出器から得られる各信号に対して適切な信号処理を行うことにより、パターンからの散乱光・回折光の影響を除き、微小異物がより高感度に検出される。
請求項（抜粋）：
ステージ上に載置された試料にレーザ光源からレーザビームを照射しながら前記ステージと前記レーザ光源とを相対的に移動させ、前記試料からの散乱光を光検出器で検出することで前記試料の表面に付着している異物を検出する異物検出装置において、前記光検出器を2個以上具備したことを特徴とする異物検出装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 21/88 E
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 L
