埋設可能なデバイスと一緒に使用するためのメンブラン

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦 , 実広信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-516584
公開番号（公開出願番号）：特表2004-538455
出願日： 2002年07月26日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

本発明は、埋設可能なデバイスと一緒に使用するためのバイオインターフェースメンブランを提供するものであって、バリア細胞層の形成を妨害し、異物レスポンス(FBR)層を形成する。最内FBR層(40)は、一般に、マクロファージと異物巨大細胞(41)とから構成され、メンブラン(48)の表面(48A)全体にわたって形成される。中間FBR層(42)は、主に、ファイバブラスト(43)とファイバマトリクス(44)とから構成される。最外FBR層(46)は、組織付着を支持するとともに、バリア細胞形成を妨害する。加えて、本発明は、バイオインターフェースメンブランを備えたセンサや、そのようなセンサまたはバイオインターフェースメンブランを備えた埋設可能デバイスや、本発明による埋設可能デバイスによる検体検出を使用したような、ホスト内でのグルコースレベルの観測方法を、もたらす。

請求項（抜粋）：

埋設可能なデバイスと一緒に使用するためのバイオインターフェースメンブランであって、 a)前記埋設可能デバイスの先端側に位置するとともに、組織の内方成長を支持し、かつ、バリア細胞層の形成を妨害するような、第1ドメインと; b)前記埋設可能デバイスの基端側に位置するとともに、細胞付着に対して耐性を有し、かつ、細胞および細胞プロセスに対して不透過性であるような、第2ドメインと; を具備することを特徴とするバイオインターフェースメンブラン。

IPC (7件)：

G01N27/327 , A61B5/145 , C12M1/34 , C12M1/40 , C12Q1/26 , C12Q1/54 , G01N27/416

FI (10件)：

G01N27/30 353P , C12M1/34 B , C12M1/34 E , C12M1/40 B , C12Q1/26 , C12Q1/54 , G01N27/30 353B , G01N27/46 338 , G01N27/46 386G , A61B5/14 310

Fターム (19件)：

4B029AA07 , 4B029AA21 , 4B029BB16 , 4B029CC03 , 4B029FA12 , 4B029GB09 , 4B063QA01 , 4B063QA18 , 4B063QQ02 , 4B063QQ03 , 4B063QQ68 , 4B063QR03 , 4B063QS28 , 4B063QS36 , 4B063QS39 , 4C038KK10 , 4C038KL01 , 4C038KL09 , 4C038KX04

引用特許：

審査官引用 (1件)

特表平5-504704

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