特許

J-GLOBAL ID：200903049739429077

膜モジュールの洗浄法

発明者： 星出 明 ,  亘 謙治 ,  高島 美香 ,  小林 真澄
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-346991
公開番号（公開出願番号）：特開平6-190250
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 モジュールのろ液側への洗浄剤の混入を抑えながら、膜モジュールを効率よく洗浄する。【構成】 液体を濾過する膜モジュールを薬品洗浄する際に、濾液側より分離膜のバブルポイント以下の気体による圧力を加え、同時に原液側に洗浄剤を加えて、中空糸膜モジュールを洗浄する。

請求項（抜粋）：

液体を濾過する膜モジュールを薬品洗浄する際に、濾液側より分離膜のバブルポイント以下の気体による圧力を加え、同時に原液側に洗浄剤を加えることを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。

IPC (2件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520