トリメチルシランの精製方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-305306
公開番号（公開出願番号）：特開2006-117559
出願日： 2004年10月20日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランの精製方法を提供する。【解決手段】少なくとも酸化銅(II)および酸化亜鉛を混合固化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも酸化銅(II)および酸化亜鉛を混合固定化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去することを特徴とするトリメチルシランの精製方法。

IPC (1件)：

C07F 7/08

FI (1件)：

C07F7/08 B

Fターム (7件)：

4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ02 , 4H049VR11 , 4H049VR23 , 4H049VW04 , 4H049VW08

引用特許：

出願人引用 (2件)

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