特許

J-GLOBAL ID：200903049745982977

ポリシランおよびポリシランの合成方法

発明者： 中野 義彦 ,  吉川 佐和子 ,  早瀬 修二
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-067472
公開番号（公開出願番号）：特開平11-263845
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 有機溶媒に可溶で容易に薄膜にすることができ、機械的強度の高い膜が形成可能なポリシランを提供する。【解決手段】 有機溶媒に可溶性を有し、ガラス転移温度が-40°C以上であり、一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含有する共重合体を含むポリシランである。【化1】(上記一般式(1)中、Rは炭素数6個以下の置換または無置換の脂肪族置換基であり、aは、0.1以上0.9以下である。)

請求項（抜粋）：

有機溶媒に可溶性を有し、ガラス転移温度が-40°C以上であり、一般式(1)で表わされる繰り返し単位を含有する共重合体を含むポリシラン。【化1】(上記一般式(1)中、Rは炭素数6個以下の置換または無置換の脂肪族置換基であり、aは、0.1以上0.9以下である。)

IPC (2件)：

C08G 77/60 ,  C09D 5/00

FI (2件)：

C08G 77/60 ,  C09D 5/00 M

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 有機ケイ素系ポリマー及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-367231   出願人：信越化学工業株式会社