特許
J-GLOBAL ID：200903049758388756
縦型減圧CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-137062
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349738
出願日： 1993年06月08日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】縦型減圧CVD装置において、成膜中のボート回転を不要とすることにより、パーティクルの発生を低減し、定期メンテナンスを簡略化して装置稼働率の向上を図る。【構成】ウェハ6を搭載したボート7を置く保温筒8aが、整流板あるいは溝、貫通穴等を有するバッフル板13aを多段に重ねて構成され、この保温筒8aの直下中央部より導入された原料ガスを各バッフル板13aの間から均等に噴き出して拡散させ、ボート7の回転を行わずにウェハ6の膜厚面内均一性を維持する。これにより、ボート回転の際発生していたパーティクルがなくなり、かつ回転部のメンテナンスも不要となる。
請求項（抜粋）：
縦型減圧CVD装置において、半導体ウェハを搭載したボートを保持する保温筒が複数枚のバッフル板を多段に重ねて構成され、この保温筒下部中央より導入された原料ガスを各バッフル板間から均等に吹き出させ拡散させることを特徴とする縦型減圧CVD装置。
引用特許：
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