特許
J-GLOBAL ID:200903049769535149

有害物質処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-221542
公開番号(公開出願番号):特開2000-051873
出願日: 1998年08月05日
公開日(公表日): 2000年02月22日
要約:
【要約】【課題】 保守点検等が容易な有害物質処理装置を提供する。【解決手段】 処理槽17の内部に紫外線透過性を有する無色透明のガラス管18を配設し、ガラス管18の内部に隙間を有するようにUVランプ19を配設する一方、難分解性物質(例えばダイオキシン類等の有機ハロゲン系化合物)などの有害物質を含有する原水1を内部に貯留する原水槽11に送給管12、送給ポンプ13、送給管14,15を介してガラス管18の上部側および処理槽18の下部側にそれぞれ連結すると共に、送給管14にオゾンガス2を送給するオゾン発生器16を連結し、ガラス管18の上部側からオゾン水3を送給してUVランプ19の周面に沿って上方から下方へ向かう水流を生じさせることにより、原水1中の有害物質の分解処理を長期にわたって行っていても、UVランプ19の周面への各種の有機物や無機物などの付着を防止できるようにした。
請求項(抜粋):
処理槽と、前記処理槽の内部に配設された管と、前記管の内部に隙間を有するように配設され、紫外線を照射する紫外線照射ランプと、難分解性物質を含む原水を前記管に送給する原水送給手段と、前記原水に酸化剤を供給する酸化剤供給手段とを備えてなることを特徴とする有害物質処理装置。
IPC (3件):
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/78
FI (3件):
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/78
Fターム (9件):
4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09

前のページに戻る