特許
J-GLOBAL ID：200903049772685208
質量分離型イオンビームデポジション装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003277
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212411
出願日： 1993年01月12日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 薄膜の成長開始時及び終了時、並びに別種のイオンビームへの切換え時等にイオンビームの偏光中に生成されたスパッタ粒子や高速中性粒子が試料に混入するのを防止する。【構成】 成長室1内の試料5の直前にイオンビーム電流をモニタできるモニタ機構13を備えたシャッタ装置6を設けた質量分離型インオンビームデポジション装置。
請求項（抜粋）：
イオン源から引出したイオンビームを質量分離器に通し、所望のイオンのみを選択し、選択したイオンビームをビーム搬送系及び減速系を介して試料へ選択したイオンを照射するように構成した質量分離型イオンビームデポジション装置において、試料直前のイオンビーム経路に、イオンビームモニタ機構を備えたシャッタ装置を設け、イオンビームの偏向操作によって生成されるスパッタ粒子や高速中性粒子等の望ましくない粒子の試料への混入を阻止できるようにしたことを特徴とする質量分離型イオンビームデポジション装置。
引用特許：
前のページに戻る
