特許

J-GLOBAL ID：200903049773026160

厚み測定方法および表面形状測定方法

発明者： 直居 薫 ,  阿部 耕三
出願人/特許権者： 黒田精工株式会社 ,  株式会社スーパーシリコン研究所
代理人 (1件)： 古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096556
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292152
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、シリコンウェーハ等の被測定物の厚みおよび表面形状を精密に測定するための厚み測定方法および表面形状測定方法に関し、被測定物の厚みおよび表面形状を容易,確実に高い精度で測定することを目的とする。【解決手段】 予め第1および第2の計測手段を、第1および第2の案内軸に沿って同期して移動することにより、第1の計測手段と第2の計測手段との相対距離を連続的に測定し軸長方向の相対距離データを得た後、第1および第2の計測手段を第1および第2の案内軸に沿って移動し、被測定物の一面および他面までの距離を連続的に測定し、それぞれの軸長方向位置において、相対距離データの対応する相対距離から、被測定物の一面および他面までの対応する距離を減算することにより被測定物の厚みを得ることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

第1の案内軸と第2の案内軸とを略平行に配置し、前記第1および第2の案内軸に沿って移動する第1および第2の計測手段により、前記第1および第2の計測手段の間に配置される被測定物の一面および他面までの距離を連続的に測定し、前記被測定物の厚みを連続的に得るための厚み測定方法において、予め前記第1および第2の計測手段を、前記第1および第2の案内軸に沿って同期して移動することにより、前記第1の計測手段と第2の計測手段との相対距離を連続的に測定し軸長方向の相対距離データを得た後、前記第1および第2の計測手段を前記第1および第2の案内軸に沿って移動し、前記被測定物の一面および他面までの距離を連続的に測定し、それぞれの軸長方向位置において、前記相対距離データの対応する相対距離から、前記被測定物の一面および他面までの対応する距離を減算することにより前記被測定物の厚みを得ることを特徴とする厚み測定方法。

IPC (2件)：

G01B 21/08 ,  G01B 21/30 101

FI (2件)：

G01B 21/08 ,  G01B 21/30 101 F

Fターム (15件)：

2F069AA46 ,  2F069AA54 ,  2F069AA55 ,  2F069BB15 ,  2F069CC06 ,  2F069DD16 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG58 ,  2F069GG63 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ06 ,  2F069JJ25 ,  2F069MM04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-369409
  
• 特開平2-018947
  
• 特開昭60-170241
  
• 特開昭63-249005