特許

J-GLOBAL ID：200903049780623750

錫微粒子の製造方法及び錫微粒子

発明者： 温井 秀樹 ,  木下 暢 ,  竹田 洋介
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100944
公開番号（公開出願番号）：特開2005-281828
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 黒色度、光遮蔽性に優れ、しかも安価な錫微粒子の製造方法及び錫微粒子を提供する。【解決手段】 本発明の錫微粒子の製造方法は、錫化合物、錯化剤及び保護剤を溶媒に溶解させ、この溶液の水素イオン指数を調整した後、この溶液に還元剤を添加し、錫微粒子を析出させることを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

錫化合物、錯化剤及び保護剤を溶媒に溶解させ、この溶液の水素イオン指数を調整した後、この溶液に還元剤を添加し、錫微粒子を析出させることを特徴とする錫微粒子の製造方法。

IPC (4件)：

B22F9/24 ,  B22F1/00 ,  C22B3/44 ,  C22B25/00

FI (4件)：

B22F9/24 Z ,  B22F1/00 R ,  C22B25/04 ,  C22B3/00 T

Fターム (18件)：

4K001AA24 ,  4K001BA08 ,  4K001BA19 ,  4K001DB17 ,  4K001DB23 ,  4K001HA12 ,  4K017AA03 ,  4K017BA01 ,  4K017CA08 ,  4K017DA07 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB01 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07 ,  4K017FB11 ,  4K018BA20 ,  4K018BB05 ,  4K018BD04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 静電写真用液体現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-313274   出願人：東洋インキ製造株式会社

審査官引用 (2件)

• 金属を還元析出させるための水溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-198763   出願人：株式会社大和化成研究所
• 特開平2-093076