特許

J-GLOBAL ID：200903049782491983

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンおよび耐熱性塗膜の製造方法およびそれらを有する電子部品

発明者： 廣 昌彦 ,  峯岸 知典 ,  加藤木 茂樹
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-233932
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077551
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】加熱により十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体及び光酸発生剤と併用したポジ型感光性樹脂組成物、レリーフの製造方法及びそれを有する電子部品を提供する。【解決手段】(A)ポリオキサゾール前駆体、(B)放射線照射により酸を発生する化合物、および、(C)加熱により塩基を発生するアミンイミド化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、照射部をアルカリ水溶液で現像除去するレリーフパターンの製造方法。前記のレリーフパターンを熱処理した耐熱性絶縁パターンを表面保護層または層間絶縁層として有する電子部品。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)ポリオキサゾール前駆体、(B) 活性光線照射により酸を発生する化合物、および、(C)加熱により塩基を発生するアミンイミド化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/312 D ,  H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  5F058AA10 ,  5F058AC07 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03