特許

J-GLOBAL ID：200903049790514160

成膜方法

発明者： 小栗 和幸
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-045606
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252657
出願日： 1994年03月16日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 密着性などの特性が良好な薄膜を形成することができる成膜方法に関する。【構成】 基板に酸素ガス、酸素ガスを含む混合ガスあるいは酸素原子を含む化合物ガス中でプラズマ前処理を行い、その後薄膜を形成させる成膜方法。

請求項（抜粋）：

基板に酸素ガスあるいは酸素ガスを含む混合ガス中でプラズマ前処理を行い、その後薄膜を形成することを特徴とする成膜方法。

IPC (5件)：

C23C 16/02 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/30 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00