特許
J-GLOBAL ID:200903049804664313
堆積膜形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-256844
公開番号(公開出願番号):特開2003-158085
出願日: 1992年12月28日
公開日(公表日): 2003年05月30日
要約:
【要約】【目的】大面積の基板上に、高品質の堆積膜を連続かつ特性のばらつきなく形成できるようにする。【構成】帯状の基板804をその長手方向に連続的に移動させながら、基板804が側壁の一面となる柱状の成膜空間802に堆積膜形成用の原料ガスを導入し、同時に成膜空間802へマイクロ波エネルギーを導入させてマイクロ波プラズマを成膜空間802内に生起させ、基板804の成膜空間802側の表面上に堆積膜を形成させる堆積膜形成方法において、成膜空間802が壁によって分離されて複数の小成膜空間810によって構成されるとともに、組成制御を行なって堆積膜を形成するようにする。
請求項(抜粋):
帯状の基板をその長手方向に連続的に移動させながら、前記基板が側壁の一面となる柱状の成膜空間に堆積膜形成用の原料ガスを導入し、同時に前記成膜空間へマイクロ波エネルギーを導入させてマイクロ波プラズマを前記成膜空間内に生起させ、前記基板の前記成膜空間側の表面上に堆積膜を形成させる堆積膜形成方法において、前記成膜空間が壁によって分離されて複数の小成膜空間によって構成され、組成制御を行なって前記堆積膜を形成することを特徴とする堆積膜形成方法。
IPC (3件):
H01L 21/205
, C23C 16/455
, C23C 16/511
FI (3件):
H01L 21/205
, C23C 16/455
, C23C 16/511
Fターム (28件):
4K030AA18
, 4K030BA09
, 4K030BA30
, 4K030CA02
, 4K030CA17
, 4K030EA06
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030KA12
, 4K030KA41
, 4K030LA16
, 5F045AA09
, 5F045AB01
, 5F045AB09
, 5F045AB17
, 5F045AB26
, 5F045AC01
, 5F045AC02
, 5F045AD07
, 5F045AE07
, 5F045AE15
, 5F045AE17
, 5F045AF10
, 5F045BB04
, 5F045CA13
, 5F045DP22
, 5F045DQ12
, 5F045EC01
引用特許:
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