特許

J-GLOBAL ID：200903049805054020

連続熱処理装置

発明者： 岩谷 伸雄
出願人/特許権者： 株式会社デンコー
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-351635
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201949
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【構成】 炉内の放射加熱板3、放射冷却板4及び炉外搬送機構14A、14Bが、夫々所定のパターンで整列して立設した基板支持ピン9を有して上下動し、その両側に設置した駆動ビーム18が一定距離Lだけ前進後退して、放射加熱板3及び放射冷却板4と駆動ビーム18とが交互に動作することによって、駆動ビーム18のアーム18aが被処理物Wを搬送するように構成され、加熱手段及び冷却手段が炉内における搬送機構の一部を兼ねるように連続熱処理装置が構成される。【効果】 基板支持ピンによって被処理物を支持しながら熱処理するので、放射加熱板及び放射冷却板に被処理物が直に接触することがなく、熱歪や亀裂を生じない。また、基板支持ピンが点で被処理物を支えるので、接触面積が小さく発塵が抑制されると共に、放射加熱板及び放射冷却板が搬送機構の一部を兼ねるので、搬送機構が簡素化され、更に冷媒による強制冷却によって降温が速やかで炉体が短縮される。その結果、発塵のない良好な雰囲気の中で熱処理された被処理物は歩留りが高く、高品質で高い生産性が保証される。

請求項（抜粋）：

加熱部とこの加熱部に接続する冷却部とからなり、前記加熱部内に被処理物を加熱するための加熱手段が設けられ、前記冷却部内に前記被処理物を冷却するための冷却手段が設けられ、前記加熱手段及び前記冷却手段に前記被処理物を支持する小片が設けられ、前記加熱手段及び前記冷却手段が、被処理物搬送機構の一部を構成している連続処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/68 ,  C03B 32/00 ,  F27B 9/12 ,  F27B 9/24 ,  F27B 9/36 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/324 ,  H05K 3/12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-213991
  
• 特開平2-016743
  
• 特開平3-213991
  
• 特開平2-016743