特許

J-GLOBAL ID：200903049810050947

狭分散アルケニルフェノール系共重合体及びその製造方法

発明者： 村本 博雄 ,  山瀬 幸雄 ,  信原 幸和 ,  松本 仁志 ,  清水 豊
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社
代理人 (1件)： 東海 裕作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-344556
公開番号（公開出願番号）：特開平10-168132
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 単峰性で分子量分布が狭く、且つ、構造の制御された、アルケニルフェノールと、PAGにより用意に分解してカルボン酸を生成する(メタ)アクリル酸エステル類との共重合体、及びその製造方法を提供する事をその目的とする。【解決手段】 一般式(I)、一般式(II)及び一般式(III)【化1】【化2】【化3】(R1 、R2 、R3 は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、R4 は、置換基を有してもよい炭素数が1〜12のアルキル基、もしくはヘテロ環基を表し、R5 は、置換基を有してもよい炭素数が7〜15の脂環族基または、該脂環族基を有するアルキル基を表す。)で表される構造単位からなり、数平均分子量が1,000〜50,000、数平均分子量(Mn)と重量平均分子量(Mw)との比がMw/Mn=1.00〜1.50でかつ、一般式(I)の構造単位の繰り返しと〔一般式(II)の構造単位の繰り返し+一般式(III)の構造単位の繰り返し〕との比が1/9〜9/1である狭分散アルケニルフェノール系共重合体。

請求項（抜粋）：

一般式(I)、一般式(II)及び一般式(III)【化1】【化2】【化3】(R1 、R2 、R3 は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、R4 は、置換基を有してもよい炭素数が1〜12のアルキル基、もしくはヘテロ環基を表し、R5 は、置換基を有してもよい炭素数が7〜15の脂環族基または、該脂環族基を有するアルキル基を表す。)で表される構造単位からなり、数平均分子量が1,000〜50,000、数平均分子量(Mn)と重量平均分子量(Mw)との比がMw/Mn=1.00〜1.50でかつ、一般式(I)の構造単位の繰り返しと〔一般式(II)の構造単位の繰り返し+一般式(III)の構造単位の繰り返し〕との比が1/9〜9/1である狭分散アルケニルフェノール系共重合体。

IPC (4件)：

C08F212/14 ,  C08F 8/00 ,  C08F220/10 ,  C08F297/02

FI (4件)：

C08F212/14 ,  C08F 8/00 ,  C08F220/10 ,  C08F297/02