特許
J-GLOBAL ID：200903049810062724
レドックス開始剤系を用いたプロピレングラフトコポリマーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151479
公開番号（公開出願番号）：特開平10-072511
出願日： 1997年05月06日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 グラフト重合の反応時間が短縮され、グラフト効率が向上し、粒子中に存在する非グラフト化ポリマーの重量平均分子量Mw の制御が良好となり、プロピレンポリマー材料のグラフトコポリマーを製造する方法を提供する。【解決手段】 (1)(a)多孔質の粒状ポリプロピレン材料を、酸素が存在しない環境で照射する工程、(b)0.004 容積%より多く15容積%未満の酸素に、40°C〜110 °Cで暴露する工程、及び(c)前工程同様の酸素の存在下で、110 °C以上に加熱する工程、(2)界面活性剤の存在下、30〜90°Cにおいて、材料を水に分散させる工程、(3)(a)一次還元剤、(b)キレート化剤、及び(c)二次還元剤を添加する工程、(4)1種以上のビニルモノマーを添加する工程、及び(5)反応混合物からグラフトコポリマーを回収する工程を含む。
請求項（抜粋）：
プロピレンポリマー材料のグラフトコポリマーを製造する方法であって、(1)(a)(i)孔容積分率が約0.07以上であって、40%を超える該孔が1ミクロンより大きな直径を有し、(ii)表面積が0.1m2/g以上であり、かつ(iii)重量平均直径が約0.4〜約7mmである粒状ポリプロピレン材料を、活性酸素濃度が0.004 容積%以下の環境下で照射する工程、(b)照射プロピレンポリマー材料を、0.004 容積%より多く15容積%未満の制御された量の酸素に、温度約40°C〜約110 °Cで暴露する工程、及び(c)(b)で用いたのと同様の範囲内の制御された量の酸素の存在下で、照射ポリマーを110 °C以上に加熱する工程により、酸化プロピレンポリマー材料を製造する工程、(2)界面活性剤の存在下、温度約30°C〜約90°Cにおいて、得られた酸化プロピレンポリマー材料を水に分散させる工程、(3)(a)一次還元剤、(b)キレート化剤、及び(c)二次還元剤を添加する工程、(4)1種以上のビニルモノマーを添加する工程、及び(5)反応混合物からグラフトコポリマーを回収する工程を含む、前記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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