特許
J-GLOBAL ID：200903049818536776
磁気光学薄膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高島 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-349669
公開番号（公開出願番号）：特開平5-159395
出願日： 1991年12月06日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：
【要約】【構成】 陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に電解析出させる際に、アルミニウム基板に垂直方向に磁場を印加する。【効果】 電解析出時に磁場を印加することにより、得られる磁気光学薄膜の残留磁化Mr が向上し角型比がほぼ1となる。また、読み出し時のカー回転角θk は従来よりも高い値となり、非常に優れた磁気光学薄膜を得ることができる。さらに、この磁場の印加により、多孔質膜層の孔内のPtMnSbの充填が従来よりも緻密化し、また、析出時間の短縮効果も期待できる。
請求項（抜粋）：
陽極酸化処理により形成させた多孔質皮膜層を表面に有するアルミニウム基板を陽極として用い、Pt,MnおよびSbのイオンを含む電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってPtMnSb合金を多孔質陽極酸化皮膜層の各孔中に電解析出させることにより磁気光学薄膜を製造する方法であって、アルミニウム基板に対して垂直な方向に磁場印加した状態で電解析出を行うことを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 11/10
, C25D 3/56
, C25B 11/03
