特許

J-GLOBAL ID：200903049821915710

不活性ガス回収再利用装置付き大気圧プラズマ処理装置

発明者： 佐伯 登
出願人/特許権者： パール工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 孝一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-383321
公開番号（公開出願番号）：特開2002-177766
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年06月25日
要約：

【要約】【課題】 チャンバー内に排出される排気ガス中のヘリウム等の不活性ガスに共存する不純物を除去して不活性ガスを回収し循環再利用可能とすることで、連続プラズマ処理時のランニングコストの低減が図れるようにする。【解決手段】 大気圧プラズマ処理装置20を設置したチャンバー21からの排気ガス排出路22に、排気ガス中のヘリウム等の不活性ガスに共存する水蒸気、酸素等の不純物を除去する不純物除去装置26を設け、この不純物除去装置26で不純物が除去された不活性ガスを回収してタンク29に貯蔵するとともに、その回収不活性ガスを大気圧プラズマ処理装置20における不活性ガスまたは混合反応ガスの供給通路35に還流して循環再利用可能に構成している。

請求項（抜粋）：

高圧電極とこの高圧電極に絶縁体を挟んで対向配置された接地電極との間に放電ギャップ及び混合反応ガス噴出部が形成され、この放電ギャップ及び混合反応ガス噴出部に、少なくともヘリウムを含む不活性ガスもしくは不活性ガスと酸素またはフルオロカーボン系の含フッ素化合物ガスを含む反応性気体との混合反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍下で導入するとともに、両電極に高周波電圧を印加して放電ギャップにグロー放電プラズマを発生させることにより、その放電プラズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガス流を上記混合反応ガス噴出部の吹出口から被処理物の表面に吹き出し照射させるように構成されている大気圧プラズマ処理装置を設置したチャンバーに不活性ガスを含む排気ガスの排出路を接続し、この排気ガス排出路に、排気ガス中の不活性ガスに共存する不純物を除去する不純物除去装置を設置するとともに、不純物が除去された不活性ガスを強制回収し、かつ、その回収不活性ガスを上記大気圧プラズマ処理装置における不活性ガスまたは混合反応ガスの供給通路に還流させて再利用するように構成していることを特徴とする不活性ガス回収再利用装置付き大気圧プラズマ処理装置。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ,  B01D 53/26 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/24 ,  C23C 16/44

FI (6件)：

B01J 19/08 H ,  B01D 53/26 A ,  H05H 1/24 ,  C23C 16/44 E ,  H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 B

Fターム (35件)：

4D052AA03 ,  4D052BA05 ,  4D052GA01 ,  4D052GB11 ,  4D052HB01 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075BB07 ,  4G075BC02 ,  4G075BC06 ,  4G075BD05 ,  4G075BD14 ,  4G075CA03 ,  4G075CA16 ,  4G075CA47 ,  4G075EB42 ,  4K030AA16 ,  4K030DA02 ,  4K030EA12 ,  4K030LA15 ,  5F004AA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB24 ,  5F004BC04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26