露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-123481
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306819
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】重ね精度をなるべく損なわず重ね差を最適にしてパターン露光する。【解決手段】第2層目のパターンN1〜N4を露光する際、露光する基板に伸縮が生じているとき、投影光学系の倍率をその伸縮量より決められた倍率補正値分だけ補正する。また、基板ステッピング時のステッピング量は、倍率補正量に基づいてX軸方向とY軸方向について同一量だけ補正する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板上に連続的に存在する複数の領域につなぎ合わせて順次転写する露光装置において、互いに直交する第1軸と第2軸とで決定される移動座標系に沿って前記基板を載置して2次元的に移動する基板ステージと、前記基板上に形成されたアライメントマークの位置を検出するマーク検出手段と、前記投影光学系の倍率を補正する倍率補正手段と、前記マーク検出手段により検出されたアライメントマークの位置情報に基づいて前記第1軸方向及び第2軸方向の前記基板の伸縮量をそれぞれ算出する演算手段と、前記演算手段により算出された伸縮量に基づいて前記倍率補正手段による倍率補正量を設定する設定手段と、前記設定手段により設定される倍率補正量に基づいて、前記基板ステージの移動を規定する前記移動座標系の第1軸及び第2軸のスケールをそれぞれ同一量で変更するスケール変更手段とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 B

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