特許

J-GLOBAL ID：200903049830517590

プラズマ処理装置

発明者： 高木 憲一
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-126514
公開番号（公開出願番号）：特開平10-302997
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】 誘導結合型プラズマ源を用いたプラズマ処理装置で、クリーニング時には電力導入窓を効率良くスパッタしてクリーニング時間を短縮し、プロセス時程にはプラズマ生成効率を向上し、経済効率の良いプロセスを行う。【解決手段】 電力導入窓12と電極13とからなる放電容器と、放電容器と連通される真空容器11と、プラズマ生成機構と、排気機構と、ガス導入機構と、放電容器の内部に接近させて設置される基板保持機構14を備え、プラズマ生成機構は、電力導入窓の周囲に固定されたアンテナ面積の小さいプロセス用の第1アンテナ18と、電力導入窓に対して移動自在に設けられたアンテナ面積の大きいクリーニング用の第2アンテナ19を備え、第2アンテナは、プロセス時には電力導入窓から離され、クリーニング時には電力導入窓に接近しかつ第1アンテナに電気的に接触するように構成される。

請求項（抜粋）：

電力導入窓とこの電力導入窓の一端を封じた電極とからなる放電容器と、前記放電容器と連通される真空容器と、前記放電容器でプラズマを発生させるプラズマ生成機構と、前記真空容器の内部を減圧状態に保つ排気機構と、前記真空容器の内部に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記電極に対し所定間隔をあけ、前記放電容器の内部空間に接近させて前記真空容器内に設置される基板保持機構を備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ生成機構は、前記電力導入窓の周囲に固定されたアンテナ面積の小さいプロセス用の第1アンテナと、前記電力導入窓に対して移動自在に設けられたアンテナ面積の大きいクリーニング用の第2アンテナを備え、前記第2アンテナは、プロセス時には前記電力導入窓から離され、クリーニング時には前記電力導入窓に接近しかつ前記第1アンテナに電気的に接触することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B