特許
J-GLOBAL ID：200903049833318823
回折格子の製造方法および光波長変換素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-023934
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234310
出願日： 1994年02月22日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 光学基板の裏面反射をなくし、均一性の高い回折格子をレジスト上に形成する。【構成】 光学結晶基板11上にTa膜12を形成し、前記Ta膜12上にレジスト13を塗布して、通常のフォトリソグラフィにより回折格子形成部分14をパタ-ニングする。その後レジストパタ-ンをドライエッチングでTa膜上に転写する。再びレジストを塗布し、干渉露光法により露光を行うと、光学基板11裏面からの反射光を防ぎ、回折格子形成部分14に深く、均一な回折格子ができる。
請求項（抜粋）：
光学基板上に回折格子を製造する方法において、前記光学基板上に回折格子形成部分(回折格子長x)を除いて、使用されるレ-ザ-光を遮断する物質により膜を形成する工程と、前記膜上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを露光した後、現像する工程とを含むことを特徴とする回折格子の製造方法。
IPC (2件)：
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