特許

J-GLOBAL ID：200903049843828706

処理装置

発明者： 山口 恭満 ,  村田 和彦 ,  内平 則夫 ,  坂井 光広
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-144567
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321581
出願日： 1997年05月20日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 基板サイズが変更されたような場合でも常に好適な位置にリンス液などの処理液を供給でき,しかも,被処理基板の裏面に対して処理液を飛び散らせることなく供給できる処理装置を提供する。【解決手段】 被処理基板Gを回転可能に保持する保持手段21と,保持手段21に保持された被処理基板Gの裏面に処理液を供給する裏面処理ノズル32とを備えた処理装置20において,裏面処理ノズル32の指向方向を変更自在に構成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理基板を保持する保持手段と,該保持手段に保持された被処理基板の裏面に処理液を供給する裏面処理ノズルとを備えた処理装置において,前記裏面処理ノズルの指向方向を変更自在に構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/02 D ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 C