特許
J-GLOBAL ID：200903049846897466
マルチプリズムアレイ及びマルチミラーアレイの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-103354
公開番号（公開出願番号）：特開平7-287109
出願日： 1994年04月18日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】 マルチストライプアレイ半導体レーザから出射される発散角が大きい多数のビームを、容易に一つのスポット状に絞り込むことができるマルチプリズムアレイ及びマルチミラーアレイの製造方法を提供する。【構成】 基板上にレジストを堆積させ、所定の角度だけ傾く方向から露光し、更に現像してこのレジストを型としてマルチプリズムアレイを成形したり、このレジストから雄型を形成した後、この雄型によりマルチミラーアレイを成形することにより、通常の半導体プロセスと同様なプロセスでマルチプリズムアレイまたはマルチミラーアレイを製造することができ、プロセス管理が容易になる。また、各要素を同時に成形することから1つ1つの要素の均一性も確保されるため、複数ビームを高効率に一つのスポット状に絞り込むことのできるマルチプリズムアレイ及びマルチミラーアレイを高精度に製造する上に、多大な効果を奏することができる。
請求項（抜粋）：
交線が互いに平行であり、かつ各面に直交する面についての断面が正三角形をなす3つの全反射面と、前記各全反射面のいずれかを下底面とし、該下底面と平行であり、かつ残りの2面と前記正三角形断面の空間に延在する上底面と、前記各面に対して所定の角度をもって交差する互いに平行な入射面及び出射面とを有し、前記入射面及び出射面に直交する方向から偏平な光を入射して前記各全反射面で反射してその形状を変換する台形柱状の複数のマルチプリズムを、互いに隣接するプリズム同士の前記下底面と前記上底面とが重なるように重ね合わせてなるマルチプリズムアレイを製造するための方法であって、基板上にレジストを前記入射面と前記出射面との間の距離分だけ堆積させる過程と、前記レジストを、前記光の光軸と直交する面についての前記孔の断面形状に沿う開口を有するマスクで覆う過程と、前記基板表面を前記入射面または出射面と平行な面として、前記基板に対して所定の角度だけ傾く前記3つの全反射面と平行な方向から前記レジストを露光し、更に現像して前記形状の孔を形成する過程と、前記レジストを型としてプリズムを形成する材料を前記形状の孔に堆積させる過程とを有することを特徴とするマルチプリズムアレイの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/04
, G02B 27/09
, H01S 3/18
