特許
J-GLOBAL ID:200903049857156670

Al-Ti系又はAl-Ta系耐摩耗性硬質膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲吉▼田 繁喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-270807
公開番号(公開出願番号):特開平6-122959
出願日: 1992年09月16日
公開日(公表日): 1994年05月06日
要約:
【要約】【目的】 コーティングに先立ち基材を予熱することなく膜を形成しても、基材上に形成する膜がそれら界面でのクラックや剥離発生を招くことなく、良好に密着する緻密な高硬度の耐摩耗性膜を簡単な工程で安価に製造する。【構成】 Ala Tib (ここで、62at%≦a≦85at%、15at%≦b≦38at%、但し、a+b=100at%)又はAlc Tad (ここで、60at%≦c≦80at%、20at%≦d≦40at%、但し、c+d=100at%)の組成を有する蒸発源材料を用い、窒素系反応ガスの供給量を連続的又は段階的に変化させながら、スパッタ法又はイオンプレーティング法により不活性ガス雰囲気中で基材上に成膜を行う。この方法により、上記組成の実質的に非晶質の金属から膜表面に向って(Al,Ti)N系又は(Al,Ta)N系結晶質セラミックス相に組成及び構造が傾斜的に変化した耐摩耗性硬質膜が得られる。
請求項(抜粋):
Ala Tib (ここで、62at%≦a≦85at%、15at%≦b≦38at%、但し、a+b=100at%)又はAlc Tad (ここで、60at%≦c≦80at%、20at%≦d≦40at%、但し、c+d=100at%)の組成を有する実質的に非晶質の金属から膜表面に向って窒素量が連続的又は段階的に増加して(Al,Ti)N系又は(Al,Ta)N系結晶質セラミックス相に組成及び構造が傾斜的に変化していることを特徴とする耐摩耗性硬質膜。
IPC (2件):
C23C 14/06 ,  C23C 14/22

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