特許

J-GLOBAL ID：200903049861593317

スプレーパイロリシス装置

発明者： 松崎 良雄
出願人/特許権者： 東京瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118221
公開番号（公開出願番号）：特開平5-294761
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】 緻密で均質なセラミックコーティングを低コストで容易に成膜することができる構造簡単にして安価なスプレーパイロリシス装置を提供すること。【構成】 基板16上にセラミックコーティングを成膜するスプレーパイロリシス装置であって、透明な石英ガラスで作られた反応管10と、前記反応管の内部に在って上部に基板を載せるサセプターを該反応管の外部から加熱する赤外線ランプ6と、原料溶液のエアロゾル8を超音波を用いて発生するエアロゾル発生器1と、エアロゾル発生器1内の原料溶液のエアロゾルを前記反応管内の基板16上に垂直方向に噴霧することができ且つ該基板との間隔を調節可能にした噴霧管4とを備えた。

請求項（抜粋）：

基板上にセラミックコーティングを行うスプレ-パイロリシス装置であって、透明な石英ガラスで作られた反応管と、前記反応管の内部に在って上部に基板を載せるサセプターを該反応管の外部から加熱する赤外線ランプと、原料溶液のエアロゾルを超音波を用いて発生するエアロゾル発生器と、前記エアロゾル発生器内の原料溶液のエアロゾルを前記反応管内の基板上に垂直方向に噴霧することができ且つ該基板との間隔を調節可能にした噴霧管と、を備えたことを特徴とするスプレーパイロリシス装置。