特許

J-GLOBAL ID：200903049878023280

プラズマ処理装置

発明者： 田内 勤 ,  工藤 勝義 ,  松本 英治 ,  唐島 陽助
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立笠戸エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031666
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232099
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】プラズマの着火性の改善及び偏ったプラズマ分布を意図的に分散させるプラズマ処理装置が必要。【解決の手段】マイクロ波発生源1、導波管2、真空室8、真空室に設けたプラズマ励起エネルギー導入窓6、該真空室への処理ガス供給口7、排気配管9からなるプラズマ処理装置において、プラズマ励起エネルー導入窓6の真空室側に凹部を設けた構造とする。【効果】着火性の改善とともに、集中放電部を意図的に設置できることによりウェハ面内処理速度均一性の改善ができる。

請求項（抜粋）：

プラズマを発生させるプラズマ発生室と前記プラズマ発生室に設けたプラズマ励起エネルギー導入用窓と前記プラズマ発生室へのガス導入手段並びに排気装置からなるプラズマ処理装置において、前記プラズマ励起エネルギー導入窓のプラズマ発生室側(処理室側)に凹部または凸部構造を設置した事を特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 1/00 104 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 1/00 104 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B