特許
J-GLOBAL ID:200903049880112702

酸除去装置および該装置を備えた純水製造装置並びに酸除去用弱塩基性陰イオン交換樹脂

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本多 小平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-032515
公開番号(公開出願番号):特開平8-224580
出願日: 1995年02月21日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【目的】 交換容量が高く、再生時の洗浄性に優れ、かつ再生効率の良好な酸除去装置を提供する。【構成】 全イオン交換容量あたり10〜30当量%が第四級アンモニウム基である(メタ)アクリル-ジビニルベンゼン共重合体を母体とする弱塩基性陰イオン交換樹脂を充填したことを特徴とする酸除去装置。
請求項(抜粋):
全イオン交換容量あたり10〜30当量%が第四級アンモニウム基である(メタ)アクリル-ジビニルベンゼン共重合体を母体とする弱塩基性陰イオン交換樹脂を充填したことを特徴とする酸除去装置。
IPC (3件):
C02F 1/42 ,  B01J 41/04 ,  B01J 41/14
FI (4件):
C02F 1/42 E ,  C02F 1/42 A ,  B01J 41/04 G ,  B01J 41/14 D
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭56-105758

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