特許

J-GLOBAL ID：200903049884321918

平坦化膜の形成方法

発明者： 土屋 宏之
出願人/特許権者： 株式会社住友金属エレクトロデバイス
代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-172682
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007516
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 簡便にかつ均一に凹凸を低減することが可能な平坦化膜の形成方法を提供する。【解決手段】 硬度が95°±5°のフラットゴムロールを用いて、粘度が500〜5000cpsの感光性樹脂を基板上に塗布することにより、感光性樹脂の塗布量を少なくし、均一塗布を行うことで、凹部に感光性樹脂を充分に塗布することができる。その後、乾燥し、溝付きゴムロールを用いて感光性樹脂の塗布厚みが所定厚みになるまで塗布および乾燥を繰返すことにより、所望の厚みの平坦な絶縁層80を容易に得ることができる。したがって、研磨あるいは加圧を施す必要がないので、製造工程を増大させることなく、簡便にかつ均一に絶縁層80の凹凸を低減することができる。さらに、感光性樹脂の粘度、ならびに溝付きゴムロールの溝ピッチ、溝深さ等のゴム形状を変えることにより、感光性樹脂の塗布量、すなわち絶縁層80の膜厚を制御することができる。

請求項（抜粋）：

凹凸部を有する基板上に平坦化膜を形成する方法であって、フラットゴムロールを用いて前記基板上に液状膜形成材を塗布し、乾燥する工程と、前記フラットゴムロールを用いて前記液状膜形成材を塗布し乾燥した基板上に溝付きゴムロールを用いて前記液状膜形成材を塗布し、乾燥する工程と、前記溝付きゴムロールを用いて前記液状膜形成材を塗布し乾燥する工程を前記基板上に形成される膜の膜厚が所定厚みになるまで繰返す工程と、を含むことを特徴とする平坦化膜の形成方法。

IPC (4件)：

H05K 3/46 ,  B05D 1/28 ,  B05D 7/00 ,  B05C 1/02 102

FI (6件)：

H05K 3/46 B ,  H05K 3/46 T ,  H05K 3/46 X ,  B05D 1/28 ,  B05D 7/00 H ,  B05C 1/02 102

Fターム (27件)：

4D075AC22 ,  4D075AC29 ,  4D075AC96 ,  4D075DA07 ,  4D075DC22 ,  4F040AA02 ,  4F040AA12 ,  4F040AB20 ,  4F040AC01 ,  4F040BA12 ,  4F040BA18 ,  4F040CB03 ,  4F040CB06 ,  5E346AA12 ,  5E346BB01 ,  5E346CC08 ,  5E346DD03 ,  5E346DD22 ,  5E346DD32 ,  5E346DD33 ,  5E346EE31 ,  5E346EE33 ,  5E346EE35 ,  5E346GG01 ,  5E346GG19 ,  5E346GG28 ,  5E346HH11