位置合わせ方法および位置合わせ制御システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-073901
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257159
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】先行露光を必要最小限にして露光装置の処理能力を大幅に低下させることなく、しかも要求される重ね合わせ精度を確保しながら露光処理できるようにした露光処理方法およびそのシステムを提供することにある。【解決手段】露光処理する露光処理過程と、重ね合わせ測定値を測定する測定過程と、指定された所望の合わせ補正値と測定された重ね合わせ測定値とを対応させて蓄積して露光履歴データベースを作成する過程と、該過程で作成された前記露光履歴データベースにおける所定の期間に亘っての変化の状態を示す評価値を基に、前記露光装置における先行露光による合わせ補正値調整の要否を判定する先行露光要否判定過程とを有することを特徴とする露光処理方法およびそのシステムである。

請求項（抜粋）：

露光装置により、所望の合わせ補正値に基いて露光パターンを順次投入される対象基板に対して露光処理する露光処理過程と、重ね合わせ測定装置により、該露光処理過程で露光処理された対象基板から順次サンプリングされた対象基板に対して下層パターンと前記露光パターンとの位置ずれ量である重ね合わせ測定値を測定する重ね合わせ測定過程と、前記対象基板に関する情報を基に、前記露光処理過程において指定された所望の合わせ補正値と前記重ね合わせ測定過程で測定された重ね合わせ測定値とを対応させて蓄積して露光履歴データベースを作成するデータベース作成過程と、該データベース作成過程において作成された前記露光履歴データベースにおける所定の期間に亘っての変化の状態を示す評価値を基に、前記露光処理過程における先行露光による合わせ補正値調整の要否を判定する先行露光要否判定過程とを有することを特徴とする露光処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3件)：

G03F 9/00 H , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 520 C

Fターム (5件)：

5F046AA17 , 5F046DA13 , 5F046DD03 , 5F046FC04 , 5F046FC06

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