特許

J-GLOBAL ID：200903049899984662

投影光学系、露光装置および露光方法

発明者： 大村 泰弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-114208
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307679
出願日： 2002年04月17日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 比較的大きな像側開口数および投影視野を有し且つ振動に対する機械的安定性などに優れた投影光学系。【解決手段】 第1面(R)の第1中間像を形成する第1結像光学系(G1)と、凹面反射鏡(CM)を有し第1中間像からの光束に基づいて第2中間像を形成する第2結像光学系(G2)と、第2中間像からの光束に基づいて最終像を第2面(W)上に形成する第3結像光学系(G3)とを備えている。そして、凹面反射鏡の有効直径(Ec)や第1面と第2面との距離(L)や凹面反射鏡と基準光軸(AX)との距離(H)について所定の条件式を満足する。

請求項（抜粋）：

第1面の像を第2面上に形成する投影光学系において、前記第1面の第1中間像を形成するための第1結像光学系と、少なくとも1つの凹面反射鏡を有し前記第1中間像からの光束に基づいて第2中間像を形成するための第2結像光学系と、前記第2中間像からの光束に基づいて最終像を前記第2面上に形成するための第3結像光学系とを備え、前記凹面反射鏡の有効直径をEcとし、前記第2面上の投影視野の有効直径をIcとし、前記投影光学系の像側開口数をNaとするとき、Ec/(Na×Ic)<10の条件を満足することを特徴とする投影光学系。

IPC (5件)：

G02B 17/08 ,  G02B 13/18 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 17/08 A ,  G02B 13/18 ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (12件)：

2H087KA21 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087TA01 ,  2H087TA04 ,  5F046BA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13