特許
J-GLOBAL ID：200903049904554434
自己保持性多孔質シリカ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-061912
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246665
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、多孔性や透明性のみならず、自己保持性に優れた多孔質のシリカ材料を提供するものである。【解決手段】 本発明は、テトラアルコキシシランとアルケニルオキシトリアルコキシシランとの共重合体、それからなる多孔質シリカ材料、及び多孔質シリカ膜に関する。また、本発明は、界面活性剤の存在下に、テトラアルコキシシランとアルケニルオキシトリアルコキシシランとを共縮合させ、次いでこれを焼成することからなる多孔質テトラアルコキシシランとアルケニルオキシトリアルコキシシランとの共重合体の製造方法に関する。
請求項（抜粋）：
テトラアルコキシシランとアルケニルトリアルコキシシランを、界面活性剤の存在下に重合させてなる共重合体。
IPC (4件)：
C08G 77/20
, C08G 77/08
, C08G 77/32
, C09D183/07
C08G 77/20
, C08G 77/08
, C08G 77/32
, C09D183/07
