特許

J-GLOBAL ID：200903049906823734

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119723
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311586
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)電子線又はX線の照射により酸を発生する、少なくとも1つのフェニル基を有するスルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩(B)アルカリ水溶液に可溶な樹脂(C)酸の作用により(B)樹脂と架橋を生じる架橋剤(D)電子線又はX線の照射により自身の結合が開裂する、及び/又は他成分の開裂を引き起こすが、中間体としてフェニルラジカルを発生しない化合物、を含有してなることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により酸を発生する、少なくとも1つのフェニル基を有するスルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩(B)アルカリ水溶液に可溶な樹脂(C)酸の作用により(B)樹脂と架橋を生じる架橋剤(D)電子線又はX線の照射により自身の結合が開裂する、及び/又は他成分の開裂を引き起こすが、中間体としてフェニルラジカルを発生しない化合物、を含有してなることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025BE07 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17