特許
J-GLOBAL ID：200903049912240490

新規な不飽和エーテル化合物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びその硬化物

発明者：
本田 芳弘

本田 芳弘 について

, 
金田 昌人

金田 昌人 について


出願人/特許権者：
昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (1件)： 柿沼 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-096388
公開番号（公開出願番号）：特開2001-278829
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 皮膚刺激性、臭気性、酸素による重合阻害を解決し、かつ低粘度な新規な不飽和エーテル化合物とその製造方法、並びに組成物及び硬化物の提供。【解決手段】 一般式(1)に代表される新規な不飽和エーテル化合物とその製造方法、並びに組成物及び硬化物。一般式(1)【化1】(一般式(1)において、R1は水素、炭素数1〜炭素数6のアルキル基、シクロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表し、R2,R3はそれぞれ独立に下記に示す構造式(1)又は構造式(2)を表す。)構造式(1) -CH2-CH=CH2構造式(2) -CH=CH-CH3
請求項（抜粋）：
一般式(1)〜一般式(4)のいずれかで表されることを特徴とする不飽和エーテル化合物。一般式(1)【化1】一般式(2)【化2】一般式(3)【化3】一般式(4)【化4】(一般式(1)〜一般式(4)において、R1は水素、炭素数1〜炭素数6のアルキル基、シクロアルキル基、またはフェニル基から選ばれたいずれか一種を表し、R2,R3はそれぞれ独立に下記に示す構造式(1)又は構造式(2)を表す。)構造式(1) -CH2-CH=CH2構造式(2) -CH=CH-CH3
IPC (5件)：
C07C 41/32 ,  C07C 41/16 ,  C07C 43/162 ,  C08F 16/32 ,  C07B 61/00 300
FI (5件)：
C07C 41/32 ,  C07C 41/16 ,  C07C 43/162 ,  C08F 16/32 ,  C07B 61/00 300
Fターム (35件)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB49 ,  4H006AC14 ,  4H006AC43 ,  4H006AD11 ,  4H006AD16 ,  4H006BA23 ,  4H006BA37 ,  4H006BA48 ,  4H006BA51 ,  4H006BB31 ,  4H006BB61 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC19 ,  4H006BC31 ,  4H006BC34 ,  4H006BE10 ,  4H006GN03 ,  4H006GN24 ,  4H006GP01 ,  4H039CA61 ,  4H039CD20 ,  4H039CJ10 ,  4J100AE75P ,  4J100AR26P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100JA01 ,  4J100JA03 ,  4J100JA32
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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