特許

J-GLOBAL ID：200903049926429706

インバータ回路を用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： 阿久津 顯右
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-061975
公開番号（公開出願番号）：特開2002-263472
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】【課題】 インパルス回路の保護抵抗の電力損失を低減することができる、エネルギ効率の高い小型化されたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 インバータ回路S1は、商業交流電圧から高周波の矩形波交流電圧を生成する。そして、小容量のパルストランス31は、矩形波交流電圧を昇圧して高周波高電圧を生成し、全波整流器34は高周波高電圧を全波整流して脈流状の直流高電圧を生成する。この後、インパルス回路S4は直流高電圧から高電圧・高頻度のパルス電圧を生成し、放電極1と対向電極2との間に印加してコロナ放電ひいてはプラズマ3を生じさせる。パルストランス31が小容量であるので、プラズマ処理装置が小型化され、直流高電圧が脈流状であるので、保護抵抗の電力損失が低減されてエネルギ効率が高められる。

請求項（抜粋）：

放電極と、該放電極と相対向する対向電極との間にパルス電圧を印加してコロナ放電によりプラズマを発生させ、被処理物に該プラズマを照射して表面改質処理を施すようになっているプラズマ処理装置であって、単相又は3相の商業交流電圧から、該商業交流電圧よりも周波数が高い高周波電圧を生成するインバータ回路と、インバータ回路によって生成された高周波電圧を昇圧して高周波高電圧を生成するパルストランスと、パルストランスによって生成された高周波高電圧を全波整流して直流高電圧を生成する全波整流回路と、全波整流回路によって生成された直流高電圧からパルス電圧を生成して放電極と対向電極との間に印加するインパルス回路とが設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

B01J 19/08 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

B01J 19/08 H ,  H05H 1/46 A ,  H05H 1/46 R

Fターム (8件)：

4G075AA30 ,  4G075BC10 ,  4G075CA18 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA03 ,  4G075EC30 ,  4G075FC15