特許

J-GLOBAL ID：200903049936471786

結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法

発明者： 沢辺 佳成 ,  三枝 邦夫
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-064542
公開番号（公開出願番号）：特開2001-253709
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：

【要約】【課題】安定性の高い研磨用スラリーが作製可能であり、かつ高い研磨速度と小さな表面粗さが実現可能な、研磨材用に好適な酸化第二セリウム粒子およびその製造方法およびそれを含む研磨用スラリーを提供する。【解決手段】3価のセリウムの塩の水溶液とアルカリ性物質を不活性ガス雰囲気中にてpHが7〜11の範囲で反応させて、3価のセリウムの水酸化物の懸濁液を生成させた後、該懸濁液中に酸化剤を含有させた状態で該懸濁液を水熱処理する結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法。一次粒子径が50nmを超え100nm未満の範囲であり、水系スラリーとしたときのスラリー中の結晶性酸化第二セリウム粒子の濃度の変化が20%/日以下である研磨材用結晶性酸化第二セリウム粒子およびその研磨用スラリー。

請求項（抜粋）：

3価のセリウムの塩の水溶液とアルカリ性物質を不活性ガス雰囲気中にてpHが7〜11の範囲で反応させて、3価のセリウムの水酸化物の懸濁液を生成させた後、該懸濁液中に酸化剤を含有させた状態で該懸濁液を水熱処理することを特徴とする結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法。

IPC (3件)：

C01F 17/00 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3件)：

C01F 17/00 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 E

Fターム (19件)：

3C058AA07 ,  3C058CA06 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  4G076AA02 ,  4G076AB07 ,  4G076BA15 ,  4G076BA27 ,  4G076BB06 ,  4G076BC07 ,  4G076BC08 ,  4G076BD01 ,  4G076BD02 ,  4G076CA02 ,  4G076CA05 ,  4G076CA15 ,  4G076CA26 ,  4G076DA30