特許
J-GLOBAL ID：200903049940517030
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-349371
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181584
出願日： 1997年12月18日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：
【要約】【課題】薬液処理停止後、直ちに純水洗浄を行うことができ、かつ薬液廃液量を低減することが可能な基板処理装置を提供すること。【解決手段】本発明の基板処理装置は、基板1の第1の処理を行う第1の容器4と、基板1の第2の処理を行う第2の容器5とを具備し、基板1がこれら容器4、5間を移動できるように、開口部12及び基板上下駆動手段10が設けられ、第1及び第2の処理で生ずる廃液を別々に回収するために、第1の容器4には第1の排出口8が、第2の容器5には第2の排出口9が設けられていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板を支持する基板支持手段と、この基板支持手段により支持された基板を回転させる基板回転手段と、上部に前記基板が通過する開口部を有し、前記基板の第1の処理を行う第1の容器と、前記第1の容器の外周を覆うように形成され、前記第1の容器の上方において前記基板の第2の処理を行う第2の容器と、前記基板を、前記第1の容器内と、その上方の第2の容器内との間を上下動させる基板上下駆動手段と、前記基板が第1の容器内にあるときに、前記基板の上面に第1の液を吐出する第1の吐出部と、前記基板が第1の容器の上方の第2の容器内にあるときに、前記基板の上面に第2の液を吐出する第2の吐出部と、前記第1の容器に設けられ、第1の液を排出する第1の排出口と、前記第2の容器に設けられ、第2の液を排出する第2の排出口と、を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
C23F 1/08 103
, B05C 11/08
, C23G 3/00
, G03F 7/30
, H01L 21/027
, H01L 21/304 643
, H01L 21/306
C23F 1/08 103
, B05C 11/08
, C23G 3/00 Z
, G03F 7/30
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/30 569 C
, H01L 21/306 R
