特許

J-GLOBAL ID：200903049946283120

ヒト表皮細胞培養用培地

発明者： 橋本 公二
出願人/特許権者： 大塚製薬株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123725
公開番号（公開出願番号）：特開平6-327470
出願日： 1993年05月26日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：

【要約】【構成】 本発明は、組織培養用のMCDB153基礎培地において、ヒスチジンを約3倍、イソロイシンを約50〜100倍、メチオニンを約6〜12倍、フェニルアラニンを約6〜12倍、トリプトファンを約3〜6倍及びチロシンを約10〜20倍の配合となるように改変したヒト表皮細胞培養用基礎培地、これに更にヒト表皮細胞の増殖支持に有効量の成長促進物質及び薬理有効量の抗生物質を含むヒト表皮細胞増殖用培地並びにヒト表皮細胞の増殖方法を提供する。【効果】 本発明培地は、ヒト表皮細胞の増殖に有用である。

請求項（抜粋）：

組織培養用のMCDB153基礎培地において、ヒスチジンを約3倍、イソロイシンを約50〜100倍、メチオニンを約6〜12倍、フェニルアラニンを約6〜12倍、トリプトファンを約3〜6倍及びチロシンを約10〜20倍の配合となるように改変したことを特徴とするヒト表皮細胞培養用基礎培地。