特許

J-GLOBAL ID：200903049950267601

有害ガスの浄化装置と浄化方法

発明者： 有馬 和重
出願人/特許権者： 有限会社フェニックス・テクノ
代理人 (1件)： 庄司 建治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-029779
公開番号（公開出願番号）：特開2006-212583
出願日： 2005年02月04日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】過熱水蒸気を用いることにより減酸素雰囲気で熱が短時間に伝わり処理対象有害ガスの分解・無害化を効率よく安全に行え、長時間にわたって安定した浄化ができる有害ガスの浄化手段を提供する。【解決手段】過熱水蒸気発生装置1は、パイプ本体2の外周面に高周波コイル3が巻装され、その中空内部に発熱体4が設けられ、当該発熱体4の隣りに処理室5を備えて成る。過熱水蒸気発生装置1に送り込まれた水7が、発熱体4を通過して処理室5内で過熱水蒸気8となっており、そこに半導体製造工程から排出された有害ガス20が送り込まれ過熱水蒸気8に接触して分解され無害化可能である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

半導体製造工程から排出される有害ガスを、過熱水蒸気により分解して無害化する有害ガスの浄化装置であって、 過熱水蒸気発生装置は、パイプ本体の外周面に高周波コイルが巻装され、その中空内部に発熱体が設けられ、当該発熱体の隣りに処理室を備えて成り、前記過熱水蒸気発生装置に送り込まれた水が、発熱体を通過して前記処理室内で過熱水蒸気となっており、そこに半導体製造工程から排出された前記有害ガスが送り込まれ前記過熱水蒸気に接触して分解され無害化可能に構成されていることを特徴とする有害ガスの浄化装置。

IPC (6件)：

B01D 53/64 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/68 ,  B01D 53/58 ,  B01D 53/54 ,  B01D 53/70

FI (7件)：

B01D53/34 136Z ,  B01D53/34 ,  B01D53/34 134C ,  B01D53/34 134A ,  B01D53/34 131 ,  B01D53/34 128 ,  B01D53/34 134E

Fターム (12件)：

4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002AA18 ,  4D002AA22 ,  4D002AA26 ,  4D002AA27 ,  4D002AA28 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA12 ,  4D002CA20 ,  4D002DA70

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有害ガスの燃焼式除害装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-369359   出願人：日本パイオニクス株式会社
• 半導体製造排ガスの除害装置及び除害方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-105530   出願人：カンケンテクノ株式会社