フォトマスクおよびフォトマスク群

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161755
公開番号（公開出願番号）：特開平7-056320
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：

【要約】【目的】フォトリソグラフィの光パターニングにおいて、各露光工程におけるフォトマスク相互の位置関係を極めて高精度に実現する。【構成】互いに異なる所定のパターンを有する複数のフォトマスク1A,1Bにより構成され、各フォトマスクは、露光用パターン以外の部分に、位置合わせ用パターン1a,1bと高精度位置決め用パターンとを有し、高精度位置決め用パターンは1以上の直線状パターン1c,1gと、互いに直交する2方向のそれぞれに1以上形成された目盛パターン1k,1m,1o,1qを有し、直線状パターン1a,1bは、フォトマスクの所定の組合せごとに互いに重なりあうように形成され、目盛パターンはフォトマスクの上記所定の組合せごとに、フォトマスク1Aに形成された目盛パターン1k,1mとフォトマスク1Bに形成された目盛パターン1o,1pが互いにバーニヤの主尺と副尺の関係をなす。

請求項（抜粋）：

感光性媒体に所定のパターンを複数回露光し、上記各パターンの重ね合わせにより、所望パターンをパターニングする光パターニングにおいて、互いに異なる所定のパターンを有する複数のフォトマスクにより構成され、各フォトマスクは、露光用パターン以外の部分に、位置合わせ用パターンと高精度位置決め用パターンとを有し、上記高精度位置決め用パターンは1以上の直線状パターンと、互いに直交する2方向のそれぞれに1以上形成された目盛パターンとからなり、上記1以上の直線状パターンは、フォトマスクの所定の組合せごとに互いに重なりあうように形成され、上記目盛パターンは、フォトマスクの上記所定の組合せごとに、一方のフォトマスクに形成された目盛パターンと他方のフォトマスクに形成された目盛パターンが互いにバーニヤの主尺と副尺の関係をなすように形成されていることを特徴とするフォトマスク群。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 M

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