特許
J-GLOBAL ID：200903049954344937
磁気ディスクの潤滑剤塗布方式および塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-021810
公開番号（公開出願番号）：特開平5-189761
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 フロン系ガスを溶媒に使用せず、フッソ系潤滑剤をミスト化してディスクに塗布する方式および装置を提供する。【構成】 液状の潤滑剤をバブラーに収容して(100〜300)°Cの範囲内の適温に維持し、これに窒素ガスを噴入して数%の濃度にミスト化してノズルより噴射し、磁性膜に塗布する。塗布装置はバブラー5と噴射部6よりなり、バブラー5は加熱ヒーター53および制御回路55を有し、液状のフッソ系の潤滑剤52を収容する容器51と、これに収容された潤滑剤に対して窒素ガスN2 を噴入する噴入パイプ56、およびその噴入量を調整するマスフローコントローラ57とにより構成する。噴射部6は回転する磁気ディスクの両面の磁性膜に対してミストをそれぞれ噴射して塗布する2個のノズル61a,61b 、およびバブラーと各ノズルの間に設けたミストが液化しないように加熱された配管62よりなる。
請求項（抜粋）：
ハード磁気ディスクの表面に形成された磁性膜に対するフッソ系の潤滑剤の塗布において、液状の該潤滑剤をバブラーに収容して(100〜300)°Cの範囲内の適温に維持し、該潤滑剤に対して窒素ガスを噴入して該潤滑剤を数%の濃度にミスト化し、回転する前記磁気ディスクの磁性膜に対して、ノズルにより該ミストを噴射して塗布することを特徴とする、磁気ディスクの潤滑剤塗布方式。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, B05B 7/26
, B05C 11/08
