特許
J-GLOBAL ID:200903049957002514

内燃機関の排気浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 笹島 富二雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-000836
公開番号(公開出願番号):特開平6-200745
出願日: 1993年01月06日
公開日(公表日): 1994年07月19日
要約:
【要約】【目的】リーン空燃比運転時における燃費の悪化を防止しつつ、リーンNOX 触媒による浄化効率を向上させる。【構成】機関11の燃焼室12からリーンNOX 触媒13を経て三元触媒14に至る第1の排気通路15aと、燃焼室12から直接三元触媒14に至る第2の排気通路15bとが形成され、該第1の排気通路15a及び第2の排気通路15bと燃焼室12との境界部分には第1排気弁16a及び第2排気弁16bが設けられている。リーンNOX 触媒13は、例えば、遷移金属を担持させたゼオライトからなり、酸化雰囲気中でHCを含有した排気を導入することにより、HCを触媒反応に用いて排気中のNOX を還元浄化することができる。第1排気弁16aは、第2排気弁16bよりも若干早めに全閉から徐々に開き始め排気行程の初期近傍で全開となり、そして、排気行程中で徐々に閉じた後、徐々に開く弁動作をして排気行程の終期近傍で全開となり、排気行程の初期近傍及び終期近傍のHC濃度の高い排気のみがリーンNOX 触媒へ導入されることになる。
請求項(抜粋):
機関の排気通路の一部を排気中のHCによる還元作用によってNOX を低減する機能を有したリーンNOX 触媒を経由する第1の排気通路と、前記リーンNOX 触媒を経由しない第2の排気通路とに分岐して形成し、かつ、前記第1の排気通路と第2の排気通路とを流れる排気の流量比を制御する排気流量比制御手段とを備え、排気行程の初期近傍及び終期近傍では、前記第1の排気通路を流れる排気の流量比を大きくさせ、それ以外の排気行程期間中は第2の排気通路を流れる排気の流量比を大きくするように前記排気流量比制御手段を切換制御する切換制御手段を含んで構成されることを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
IPC (3件):
F01N 3/20 ZAB ,  F01N 3/20 ,  F01N 3/24 ZAB

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