特許

J-GLOBAL ID：200903049961075658

軟磁性体部品の磁場内での熱処理方法

発明者： ジョルジュ クーデルション ,  フィリップ ヴラン
出願人/特許権者： メカジ
代理人 (1件)： 越場 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008110
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】 15/80/5FeNiMo合金、Coベースの非晶質合金またはナノ結晶性FeSiCuNbB型合金を含む異方性の低い軟磁性体からなる磁気部品を磁気材料のキュリー温度よりも低い温度でアニールし、アニーリング中は磁気部品に縦方向または横方向の一方向の連続または交番磁場を加える、磁気部品を磁場内で熱処理する方法。【解決方法】 磁場を一連のパルスの状態で加え、各パルスは磁場の強度が最大値に達する第1の部分と磁場の強度が最小値を有する第2の部分とを有するようにする。

請求項（抜粋）：

15/80/5FeNiMo合金、Coベースの非晶質合金またはナノ結晶性FeSiCuNbB型合金を含む異方性の低い軟磁性体からなる磁気部品を磁気材料のキュリー温度よりも低い温度でアニールし、アニーリング中は磁気部品に縦方向または横方向の一方向の連続または交番磁場を加える、磁気部品を磁場内で熱処理する方法において、磁場を一連のパルスの状態で加え、各パルスは磁場の強度が最大値に達する第1の部分と磁場の強度が最小値を有する第2の部分とを有することを特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01F 1/14 ,  C21D 1/04 ,  C21D 6/00

FI (3件)：

H01F 1/14 Q ,  C21D 1/04 ,  C21D 6/00 C