特許
J-GLOBAL ID：200903049971101479

立坑構築工法

発明者：
岡 憲二郎

岡 憲二郎 について


出願人/特許権者：
東洋建設株式会社

東洋建設株式会社 について


代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-153088
公開番号（公開出願番号）：特開平9-317373
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：
【要約】【課題】 高圧噴射攪拌工法を利用して立坑の計画域の周りと計画域内の地盤を先行補強する。【解決手段】 立坑の計画域Aの周りの地盤4に、芯材6を含む改良体5を相互にラップするように配列して連続壁1を造成し、計画域A内の地盤4中に、注入ロッドによるグラウト噴射を縦方向に断続的に実施して改良体8,9を形成すると共に、これら改良体8,9を相互にラップするように配列して改良底盤2および改良中間盤3を造成し、改良中間盤3を先行地中梁として用いて、先ず地表から改良中間盤3まで掘り下げ、この改良中間盤3をくり抜いた後、その下側地盤を改良底盤2まで掘り下げる。
請求項（抜粋）：
高圧噴射攪拌工法により地盤改良して形成した円柱状の改良体内に芯材を埋め込んで複合体となす施工を、立坑の計画線に沿って繰り返し行って連続壁を造成し、次に、高圧噴射攪拌工法による改良体の形成を前記連続壁内で繰り返し行って、前記立坑の計画底の下方域並びにその計画深さの中間域にそれぞれ改良底盤、改良中間盤を造成し、しかる後に、前記連続壁内の地盤を地表から前記改良中間盤まで掘り下げ、さらに前記改良中間盤をくり抜いてその下側地盤を前記改良底盤まで掘り下げることを特徴とする立坑構築工法。
IPC (5件)：
E21D 1/03 ,  E02D 3/12 102 ,  E02D 5/20 101 ,  E04G 21/14 ,  E21D 1/10
FI (5件)：
E21D 1/03 ,  E02D 3/12 102 ,  E02D 5/20 101 ,  E04G 21/14 ,  E21D 1/10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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