特許

J-GLOBAL ID：200903049977649000

ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、ビニル4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル4-ヒドロキシベンザル-ビニルアルコール-ビニルアセテート共重合体、これらの製造方法及びフォトレジスト物質

発明者： 金 鎭伯 ,  金 賢友
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社 ,  韓国科学技術院
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317892
公開番号（公開出願番号）：特開平9-188716
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】 本発明の主な目的は、ビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体及び前記共重合体のビニル 4-ヒドロキシベンザル基の全部、又は一部をt-ブトキシカルボニル基で保護した重合体を提供することである。【解決手段】 本発明はポリ(ビニル アルコール)を4-ヒドロキシベンズアルデヒドでアセタル化させたビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体、前記重合体の4-ヒドロキシベンザル基の全部又は一部をt-ブトキシカルボニル基で保護したビニル 4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体(共重合体(II))又はビニル 4-t-ブトキシカルボニルオキシベンザル-ビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体(共重合体(III))、それらの製造方法及びそれら共重合体のフォトレジストとしての用途に関する。

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表されるビニル 4-ヒドロキシベンザル-ビニル アルコール-ビニル アセテート共重合体。【化1】(式中、aが5〜70モル%に対応し、bが1〜60モル%に対応し、cが0〜40モル%に対応する。)

IPC (7件)：

C08F 8/28 MGZ ,  C08F 8/14 MGN ,  C08F216/06 MKV ,  C08F216/38 MLC ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08F 8/28 MGZ ,  C08F 8/14 MGN ,  C08F216/06 MKV ,  C08F216/38 MLC ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R