特許
J-GLOBAL ID:200903049991885433

低反射アルミニウム薄膜基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-038425
公開番号(公開出願番号):特開平9-230326
出願日: 1996年02月26日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】 クロム成分を一切含有しない、ブラックマトリックス等に有用な低反射基板を提供する。【解決手段】 可視光域において、極小反射率が0.5%以下、平均反射率が2%以下で、透明ガラス基板上にアルミニウム系スパッタリング成膜されている低反射アルミニウム薄膜基板。
請求項(抜粋):
可視光域において、極小反射率が0.5%以下、平均反射率が2%以下で、透明ガラス基板上にスパッタリングによるアルミニウム系薄膜が形成されていることを特徴とする低反射アルミニウム薄膜基板。
IPC (4件):
G02F 1/1335 500 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/34 ,  G02F 1/01
FI (4件):
G02F 1/1335 500 ,  C23C 14/14 B ,  C23C 14/34 A ,  G02F 1/01 A

前のページに戻る