特許

J-GLOBAL ID：200903049993866070

露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 青木 明夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-257519
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068618
出願日： 2001年08月28日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイスなどの製造時における不良の発生を回避して、生産ラインの生産性の低下を抑制する。【解決手段】 原版上に形成された回路パターンを基板上に投影露光する露光装置において、原版上または基板上に形成される回路パターンの設計データを位置合わせの残差に基づいて変形させる回路パターン変形手段と、回路パターン変形手段によって変形された設計データを画像データとしてメモリ上に展開する回路パターン展開手段と、回路パターン展開手段によってメモリ上に展開された原版上の回路パターンの画像データおよび基板上の回路パターンの画像データを重ねて表示する回路パターン表示手段とを設ける。

請求項（抜粋）：

原版上に形成された回路パターンを基板上に投影露光する露光装置において、前記原版上または前記基板上に形成される回路パターンの設計データを位置合わせの残差に基づいて変形させる回路パターン変形手段と、前記回路パターン変形手段によって変形された設計データを画像データとしてメモリ上に展開する回路パターン展開手段と、前記回路パターン展開手段によってメモリ上に展開された原版上の回路パターンの画像データおよび基板上の回路パターンの画像データを重ねて表示する回路パターン表示手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (3件)：

5F046AA28 ,  5F046DD01 ,  5F046DD03