特許
J-GLOBAL ID：200903049997697078
レーザビームの照射強度評価方法及びこれを利用した照射強度評価装置、並びにレーザビーム照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055771
公開番号（公開出願番号）：特開2002-261354
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：
【要約】【課題】 比較的簡易な構成で、レーザビームの照射強度の状態を精度良く知る。【解決手段】 所定の照明光を投光したときにその透過光の光量がレーザビームの照射エネルギー密度に応じて変化する基材に、レーザビームを照射する照射段階と、レーザビームが照射された前記基材に対して前記照明光を投光し,その透過光の光量変化により形成される濃淡画像を得る画像形成段階と、該得られた濃淡画像に基づいて前記基材の変化状態を解析する段階とを備え、前記基材の変化状態の解析結果からレーザビームの照射強度分布を評価する。
請求項（抜粋）：
照射対象物に照射するレーザビームの照射強度評価方法において、所定の照明光を投光したときにその透過光の光量がレーザビームの照射エネルギー密度に応じて変化する基材に,レーザビームを照射する照射段階と、レーザビームが照射された前記基材に対して前記照明光を投光し,その透過光の光量変化により形成される濃淡画像を得る画像形成段階と、該得られた濃淡画像に基づいて前記基材の変化状態を解析する段階とを備え、前記基材の変化状態の解析結果からレーザビームの照射強度分布を評価することを特徴とするレーザビームの照射強度評価方法。
Fターム (3件)：
5F072AA06
, 5F072JJ20
, 5F072YY02
