特許

J-GLOBAL ID：200903050001194235

紫外線照射装置

発明者： 中塚 豪 ,  河野 広明
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-143325
公開番号（公開出願番号）：特開2003-334547
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年11月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 185nmのような浸透度が小さい紫外線、及び254nmのような浸透度が大きい紫外線を、被処理水に対して共に効果的に作用させることができる高効率な紫外線照射装置を提供する。【解決手段】 1本又は複数本の紫外線ランプ20を紫外線透過型の保護管30内に収容する。保護管30をその外側に隙間ができるように反応容器40内に収容し、前記隙間に被処理液を軸方向へ流通させる。保護管30の外側に形成される隙間が保護管30の外面近傍に絞られるように、複数の第1整流体50を反応容器40内に配置する。保護管30の外側に形成される隙間が反応容器40の内面近傍に絞られるように、複数の第2整流体60を反応容器40内に第1整流体50に隣接して配置する。紫外線ランプ20は、254nm付近及び185nm付近が高出力であるアマルガム封入の高出力低圧紫外線ランプとする。

請求項（抜粋）：

複数本の紫外線ランプを収容する紫外線透過型の保護管と、該保護管をその外側に隙間ができるように収容し、前記隙間を被処理液が軸方向へ流通するよう構成された筒状の反応容器とを具備しており、前記保護管内の中心部に複数本の紫外線ランプが支持固定されると共に、前記保護管の外径が前記複数本の紫外線ランプの外接円の直径の1.5倍以上であることを特徴とする紫外線照射装置。

IPC (5件)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/10 ,  H01J 61/72

FI (5件)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  G21K 5/00 Z ,  G21K 5/10 F ,  H01J 61/72

Fターム (14件)：

4D037AA03 ,  4D037AB01 ,  4D037BA18 ,  4D037BB04 ,  4D037CA11 ,  4D050AA05 ,  4D050AB07 ,  4D050BB20 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD08 ,  5C039HH01 ,  5C039HH13