特許
J-GLOBAL ID：200903050001426136
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-259861
公開番号（公開出願番号）：特開平7-114174
出願日： 1993年10月18日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】 基板の上端面上の洗浄液を基板の表面上に垂れ落ちることなく取り除くことができる基板洗浄装置提供する。【構成】 基板(R)をほぼ垂直に、かつ基板(R)の対向する2つの端面がほぼ水平になるように保持し、その保持された基板(R)に洗浄液を噴射して洗浄する。そして除去手段(21、22)は保持手段(30)によって保持された基板(R)の上端面(Ra)上の洗浄液を取り除く。
請求項（抜粋）：
矩形状の基板をほぼ垂直に、かつ該基板の対向する2つの端面がほぼ水平となるように保持する保持手段と、前記垂直に保持された基板に洗浄液を噴射して前記基板を洗浄する洗浄手段とを有する基板洗浄装置において、前記保持手段によって保持された基板の上端面上の洗浄液を取り除く除去手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, B08B 11/04
, H01L 21/304 341
